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PVD真空鍍膜原理是什麽？

PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製備技術。

離子鍍膜(PVD鍍膜)技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質電離，在電場的作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。

采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦係數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無汙染的環保型表麵處理方法，它能夠製備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。

PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1～5，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1~1，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表麵的各種物理性能和化學性能，並能夠維持工件尺寸基本不變，鍍後不需再加工。

ABS、PC、ABS+PC塑料底材UV真空鍍膜表麵出現油點、油窩問題的解決方法：

UV真空鍍膜為什麽要除油？

1.塑料注塑成型使用脫模劑等導致塑料表麵沾有油汙，是電鍍不良缺陷主要的原因。在塑料表麵電鍍罩UV光油的表麵處理工藝中，塑料注塑成型工藝中脫模劑殘留在塑料表麵導致電鍍不良是較為常見的.

2.脫模劑能夠對塑料模具成型的塑料提供快捷有效的脫模作用，而殘留在塑料製品表麵的脫模劑油汙，會在材質表麵形成分布不均勻的油花或者油點。

靜川化工UV真空鍍膜除油處理劑的應用：

白電油浸泡除油方法，安全性能成為較大的隱患，除油效果不穩定，施工工藝繁瑣，造成影響電鍍效果的因素增多，沒有足夠的市場經驗和實驗基礎，且無法達到環保標準需求。但是靜川化工UV真空鍍膜處理劑則隻需噴塗的電鍍除油劑，操作工藝簡單，能夠配合線體進行施工，遮蓋油汙能力強，無鹵通過RoHS檢測，已通過大量的市場應用證明，除油效果穩定，效率高，無鹵環保，提升良率幅度大。

PVD鍍金是怎麽操作的？它跟普通的鍍金有什麽不同？

PVD技術是在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表麵氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，並通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表麵沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。PVD鍍金與普通的鍍金的區別：

一、原理不同：

1、PVD物理氣相沉積是通過蒸發，電離或濺射等過程，產生金屬粒子並與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表麵。物理氣相沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍三種，應用較廣的是離子鍍。

2、普通鍍金則是一般包括化學金和電鍍金。化學鍍金層的硬度和耐磨性比電鍍硬金差，能達到的厚度有限，不適合某些表麵貼裝的焊接方法。

二、應用領域不同：

1、PVD物理氣相沉積技術工藝過程簡單，對環境改善，無汙染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結合力強。該技術廣泛應用於航空航天、電子、光學、機械、建築、輕工、冶金、材料等領域。

2、普通鍍金具有較低的接觸電阻、導電性能良好、易於焊接、耐腐蝕性強、並具有一定的耐磨性（指硬金），因而在精密儀器儀表、印製電路板、集成電路、管殼、電接點等方麵有著廣泛的應用。

擴展資料：

PVD技術的相關發展狀況：

1、隨著高科技及新興工業發展，物理氣相沉積技術出現了不少新的先進的亮點，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術，大型矩形長弧靶和濺射靶，非平衡磁控濺射靶，孿生靶技術。

2、帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術，條狀纖維織物卷繞鍍層技術等，使用的鍍層成套設備，向計算機全自動，大型化工業規模方向發展。

參考資料來源：

百度百科-PVD

參考資料來源：

百度百科-鍍金

PVD真空鍍膜原理是什麽？

⠂ 高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。可鍍材料廣泛，與基體結合力強。PVD裝飾塗層顏色係列 PVD可以在不鏽鋼、銅、鈦鋅鋁合金等金屬上鍍製CrN。TiN。TiAlCN。TiCN。TiAlN。金色、黃銅色、玫瑰金色、銀白色、黑色、煙灰色、紫銅色、棕色、紫色、藍色、酒紅色、古銅色等顏色，並能根據您的要求提供所需的顏色及質量。

pvd與電鍍的區別是什麽？

⠂ PVD基本方法:真空蒸發、濺射?、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。電鍍(Electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表麵上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料製件的表麵附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如鏽蝕)，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進美觀等作用。

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